電解質溶液的組成及狀態(tài)的影響

電化學拋光溶液的成分及配方對拋光質量的影響  化學拋光時，電化學拋光溶液的成分及配比對拋光質量有決定性的作用。雖然目前尚未有明確的用于指導溶液配比的理論，但經過幾十年的實踐經驗已形成了用于電化學拋光的各種金屬材料的系列電解液配方，并以這些系列配方為基礎不斷改進和提高，獲得了多種比較理想的電解液配方并推廣應用。例如，在某些著作中提出對4Cr13鋼在硫酸(H2S04)、磷酸(H3P04)、甘油(C3 H8 03)和的混合液中能進行良好的拋光，原始表面粗糙度為R，3.  2Pm的鋼經拋光后可明顯改善。有人通過試驗后對配方進行改進，不使用甘油而使用鉻酐，  即磷酸( H3P04)、硫酸( H2 S04)、鉻酐(Cr03)和水的電解質溶液配方，取得了比前配方好的拋光效果。用甘油添加劑的溶液配方時，拋光后的表面發(fā)灰，由于甘油添量較大，溶液黏度大，溶解產物不易去除，從經濟上考慮成本太高，采用鉻酐代替甘油后，拋光表面均勻、厚實，具有很好的表面粗糙度及很高的拋光質量。

電解質溶液的組成及狀態(tài)的影響

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